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激光平面干涉儀  CE36-INF60-LP/M107501

激光平面干涉儀 CE36-INF60-LP/M107501

簡要描述:
激光平面干涉儀 CE36-INF60-LP/M107501?
大測量口徑:Φ60mm
測量方式:菲索干涉原理
光源:半導體激光器(635nm)

產(chǎn)品時間:2019-06-13

訪問量:1086

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

生產(chǎn)地址:

激光平面干涉儀  CE36-INF60-LP/M107501

緊湊結(jié)構(gòu)、小型化、防塵效果好
批量檢測平面光學元件表面面型測量。

激光平面干涉儀  CE36-INF60-LP/M107501
大測量口徑:Φ60mm
測量方式:菲索干涉原理
光源:半導體激光器(635nm)
對準方式:簡單兩點對準
標準參照鏡面形精度:p-v:λ/20

 

 

激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀激光平面干涉儀

 

 

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